La suite Tanner est maintenant incluse dans le programme pour enseignement supérieur (HEP) Siemens.
Elle comprend des produits pour la conception, l’agencement et la vérification de conceptions analogiques, à signaux mixtes et de MEMS. Elle consiste en des outils frontaux et dorsaux complètement intégrés, de la saisie de schéma à la simulation de circuits et de l’analyse de formes d’onde à l’agencement et à la simulation physiques.
Les outils inclus dans la suite sont les suivants :
- L-Edit : outil de conception d’agencement, de vérification de schéma (LVS) et de vérification des règles de conception (DRC), qui peut aussi être utilisé pour les conceptions de MEMS; pour plus de détails, consultez http://s3.mentor.com/public_documents/datasheet/tannereda/l-edit-ds.pdf.
- S-Edit : outil pour la saisie de schéma; pour plus de détails, consultez http://s3.mentor.com/public_documents/datasheet/tannereda/s-edit-ds.pdf.
- T-Spice : outil pour la simulation de circuits; pour plus de détails, consultez http://s3.mentor.com/public_documents/datasheet/tannereda/t-spice-ds.pdf.
- W-Edit : visionneuse et outil d’analyse de formes d’onde; pour plus de détails, consultez http://s3.mentor.com/public_documents/datasheet/tannereda/wavefrom-viewer-ds.pdf.
Détails techniques
Accès universitaire
Accès industriel
Exigences ou restrictions en matière de licences
Détails techniques
| Versions des logiciels et systèmes d’exploitation | Plateformes et processeurs pris en charge par la version 2016.2, mise à jour 8 (FlexNet) :
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| Niveau de bits | 32 bits et 64 bits |
Accès universitaire
Ce que vous obtenez
- Instances illimitées d’utilisation simultanée par outil pour l’équipe de recherche de la personne abonnée en accédant à un groupe de licences partagées (jusqu’aux limites de licences disponibles dans le groupe partagé).
- Accès pendant un an.
Accès industriel
Ce que vous obtenez
- Tanner L-Edit Photonic Designer:
- L-Edit (conception d’agencements)
- S-Edit (saisie de schéma)
- T-Spice (simulation)
- W-Edit (analyse de formes d’onde)
- Tanner L-Edit IC EE
- Tanner L-Edit MEMS Plus EE
- Calibre Suite
- nmDRC
- nmLVS
- RVE/QDB-H
- Interactive
Exigences ou restrictions en matière de licences
Pour l’accès universitaire :
L’utilisation de ce logiciel est restreinte par des ententes juridiques qui exigent la signature au niveau de l’université et de la personne :
- Les personnes qui accèdent à ce logiciel doivent le faire uniquement à partir d’un emplacement au sein des frontières géographiques du Canada.
- L’utilisation de ce logiciel est limitée à la recherche universitaire seulement.
- Le logiciel ne peut PAS servir à des fins commerciales.
- Seuls les professeurs et leurs équipes de recherche disposant d’un abonnement en règle de type Recherche sont autorisés à accéder à ce logiciel.
- Cet outil de conception est soumis aux conditions générales d’utilisation du concédant de licence de logiciel décrites dans le Contrat de licence d’utilisateur final avec conditions supplémentaires sur le logiciel d’EDA.
- L’utilisation est soumise à des règles de contrôle de l’exportation énoncées dans l’article 7 du Contrat de licence d’utilisateur final avec conditions supplémentaires sur le logiciel d’EDA.
