Événements

Cours de fabrication de photonique active sur silicium, édition 2021

En ligne, en direct du 17 au 28 mai 2021

En réponse à la pandémie de COVID-19, CMC et ses partenaires professeurs de l’Université de la Colombie-Britannique et de l’Université Laval offrent en ligne ce cours réputé sur la photonique sur silicium.

Ce cours enseigne aux étudiants la conception, la fabrication et la mise à l’essai de circuits photoniques intégrés (CPI) qui ciblent la technologie de photonique sur silicium d’AMF, offerte par l’intermédiaire de CMC Microsystèmes, ainsi que la technologie NanoSOI de photonique sur silicium disponible directement par le biais d’Applied Nanotools ou de SiEPICfab.

Ce cours peut constituer une occasion d’apprentissage autonome ou être combiné à vos activités de recherche ou de développement. Les applications ciblées comprennent les capteurs et les communications optiques.

Mentor Graphics et Lumerical (fait maintenant partie de la famille Ansys) soutiennent ce cours en fournissant l’accès à leurs outils aux participants situés au Canada (de plus amples renseignements ci-dessous).

Remarques importantes :

  1. Pour obtenir l’accès aux renseignements confidentiels sur la technologie fournis pendant le cours, votre organisation doit signer une entente de confidentialité avec CMC Microsystèmes. Veuillez communiquer avec Jennifer Draper (jennifer.draper@cmc.ca) afin de faciliter le processus de ratification de l’entente de confidentialité avant le 3 mai 2021.
  2. Puisqu’ils auront accès à d’autres renseignements exclusifs et confidentiels dans le cadre du cours, les participants doivent signer une entente de confidentialité et d’accès à de la propriété intellectuelle. L’entente signée doit être envoyée à Sarah Neville (Neville@cmc.ca) avant le 10 mai 2021.

Prérequis

Achèvement du cours de nanophotonique passive sur silicium, expérience dans la conception de circuits photoniques intégrés ou permission des formateurs.

Calendrier

Date Heure Emplacement
17 au 28 mai 2021 11 h à 14 h HAE Vidéoconférence par Zoom

Tarification et inscription

Option Option 1 Option 2 Option 3 Option 4
Description Un cours de cycle supérieur de trois crédits sur les fondements de la conception, de la fabrication et de la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques actifs sur silicium. Une formation d’un an sur les fondements de la conception, de la fabrication et de la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques actifs sur silicium. Une formation d’un an sur les fondements de la conception, de la fabrication et de la mise à l’essai des circuits et des dispositifs photoniques actifs sur silicium. L’atelier inclut uniquement ce qui suit : un atelier en ligne; du contenu préenregistré. Exclu : Fabrication de circuit intégré par la technologie d’AMF
Tarif Frais de fabrication réduits de 750 $

Le tarif d’inscription comprend une surface de fabrication de circuit intégré dans un lot de fabrication d’AMF partagé.

Tarification préférentielle : Frais de formation et de fabrication de 1 150 $

Le tarif d’inscription comprend une surface de fabrication de circuit intégré dans un lot de fabrication d’AMF partagé.

La tarification standard comprend les frais de formation et de fabrication

  • Industrie : 8 250$
  • Universitaire : 7 000$

Le tarif d’inscription comprend une surface de fabrication de circuit intégré dans un lot de fabrication d’AMF partagé.

Tarification standard, frais de cours seulement :

  • Industrie : 2 900$
  • Universitaire : 1 650$
Admissibilité Cette option de tarification exige l’inscription à l’un des cours suivants (voir les « Remarques particulières ») :

  • Université de la Colombie-Britannique, ELEC 581
  • Université Laval, GEL 7070 ou GEL 7071
  • Queen’s PHYS 982
Cette option de tarification n’est offerte qu’aux universitaires canadiens qui disposent d’un abonnement chez CMC (ou dont le superviseur dispose d’un tel abonnement). Ces options de tarification sont offertes à tout chercheur qui n’est pas admissible en vertu des options 1 et 2.
Remarques particulières
  • Les étudiants invités d’établissements qui figurent dans l’Annexe A peuvent s’inscrire au cours ELEC 581 de l’Université de la Colombie-Britannique.
  • En vertu d’une entente, les participants hors Canada doivent disposer de leur propre licence pour les outils Ansys Lumerical. Communiquez avec Jessica Zhang à zhang@cmc.ca pour obtenir des détails.
  • La licence Mentor impose des restrictions d’accès aux participants non universitaires. Communiquez avec Jessica Zhang à zhang@cmc.ca pour obtenir des détails.
Inscription
Remarque : Un rabais est offert sur les options 3 et 4 lorsque plusieurs participants proviennent de la même organisation. Communiquez avec Jessica Zhang à zhang@cmc.ca pour obtenir des détails.

Calendrier de formation

  • Exposés, tutoriels et activités sous la forme de vidéos préenregistrées en ligne (dispositifs passifs, introduction aux dispositifs actifs) : Après l’inscription jusqu’avant le 17 mai 2021 (idéalement)
  • Cours en ligne sur les dispositifs actifs : 17 au 28 mai 2021
  • Exposés, tutoriels et activités sous la forme de vidéos préenregistrées en ligne : À compter du 17 mai 2021, formation à progression libre
  • Conception, modélisation et agencement de masque : de juin à octobre 2021
    • Accès aux outils logiciels, aux tutoriels et aux forums de discussion en ligne
    • Rétroaction fournie sur la conception
  • Échéance pour la proposition de conception : 20 septembre 2021
  • Examen de la conception : 5 octobre 2021 (pour les étudiants profitant d’une tarification réduite, la confirmation par votre superviseur de faculté du rapport de conception et de l’agencement de masque est requise avant que votre conception puisse être fabriquée)
  • Soumission de la conception (échéance pour l’agencement) : 11 octobre 2021
  • Date d’expédition de dispositif : avril 2022
  • Mise à l’essai du dispositif et validation du modèle : mai et juin 2022
  • Rapport final : juillet 2022

Description des technologies

Technologie d’AMF

  • Silicium sur isolant, couche de Si supérieure de 220 nm, oxyde enfoui (BOX) de 3000 nm
  • Lithographie par UV profonde de 193 nm, ce qui permet des fonctionnalités jusqu’à une profondeur de 150 nm
  • Prise en charge de la conception et de la fabrication d’un éventail de composants et de systèmes comprenant :
    • des modulateurs;
    • des détecteurs;
    • des guides d’ondes (à bandes ou à moulures);
    • des réseaux pour couplage de fibres;
    • une tranchée profonde et des raccords progressifs nanométriques pour le couplage en périphérie;
    • des multiplexeurs (diffraction ou guide d’ondes en réseau) et des filtres (résonateurs, réseaux de Bragg);
    • des résonateurs en anneau et à disque.
  • La fabrication est effectuée par AMF à Singapour.

Technologie d’ANT

  • Silicium sur isolant, film de Si supérieur 220 nm, oxyde enterré 2 000 nm (BOÎTE)
  • Lithographie par faisceau d’électrons, permettant des fonctions jusqu’à 60 nm
  • Prise en charge :
    • guides d’ondes (en forme de bande)
    • grilles pour couplage des fibres
    • chauffages métalliques pour déphasage thermo-optique
    • tranchée profonde et nano-cônes pour le couplage des bords
    • multiplexeurs, filtres, résonateurs en anneau à disque
  • La fabrication est effectuée par Applied Nanotools au Canada
  • D’autres fonctions telles que des coupleurs de bord, des ouvertures de fenêtre en oxyde et des tranchées d’isolation thermique sont disponibles en dehors du cours par l’intermédiaire d’Applied Nanotools.

Détails du cours

Sommaire du plan de cours

  • Procédés de fabrication et trousses de conception
  • Modélisation de dispositifs (détecteurs, modulateurs, anneaux, MZI, jonctions PN et PIN, ajustement thermique, composants optiques, conception à microondes d’électrodes)
    • o Outils de CAO : Synopsys, Lumerical MODE Solutions, FDTD Solutions, INTERCONNECT et DEVICE
  • Agencement et vérification
    • Outils de CAO : K-layout, Mentor Graphics Tanner et Calibre
  • Conception pour la mise à l’essai et conception pour la fabrication

Accès aux outils

  • De Mentor Graphics :
    • Mentor Graphics offre aux participants à l’atelier issus d’établissements universitaires un accès gratuit à Tanner et à Calibre pendant et après l’atelier, afin qu’ils puissent réaliser leurs conceptions dans le cadre du cours. Des conditions sur les régions d’accès peuvent s’appliquer.
    • D’Ansys Lumerical :
      • L’Université de la Colombie-Britannique offre aux participants à l’atelier à l’intérieur du Canada un accès gratuit à la licence d’enseignement Lumerical pour MODE Solutions, FDTD Solutions, INTERCONNECT et DEVICE au cours de l’atelier et après celui-ci, afin qu’ils puissent réaliser leurs conceptions dans le cadre du cours.
      • Les participants hors Canada doivent disposer de leur propre licence pour les outils Ansys Lumerical.

Coordonnées

Si vous avez des commentaires ou des questions au sujet du contenu du cours ou de l’inscription à celui-ci, veuillez communiquer avec Jessica Zhang à zhang@cmc.ca.

Annulations

Vous devez nous faire parvenir votre annulation de cours par écrit au moins une (1) semaine avant la date de début du cours afin d’être admissible à un remboursement complet des frais d’inscription. Une inscription annulée après la date limite ne sera pas remboursée. CMC Microsystèmes ne s’engage pas à rembourser les frais de déplacement ou d’hébergement.

Annexe A

Les étudiants inscrits dans des programmes de cycles supérieurs d’autres universités canadiennes peuvent s’inscrire au cours de l’Université de la Colombie-Britannique à titre d’étudiants invités. Une demande d’inscription à l’école des cycles supérieurs de l’Université de la Colombie-Britannique est requise. Des conditions peuvent s’appliquer. Les détails se trouvent au :
https://www.grad.ubc.ca/prospective-students/application-admission/visitors-canadian-universities

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