- Silicium sur isolant, couche de Si supérieure de 220 nm, oxyde enfoui (BOX) de 2 000 nm
- Système de lithographie par faisceau électronique de 100 keV permettant des fonctionnalités jusqu’à une profondeur de 60 nm
- Gravure complète sur le silicium supérieur pour une exécution de tranche multiprojet existante, gravure partielle sur silicone offerte prochainement
- Métallisation TiW/Al à trois couches et chauffeur d’alliage TiW offerts
- Options proposées de fenêtre d’oxyde métallique, de tranchée profonde pour couplage en périphérie et d’imagerie de microscope à balayage électronique
- Des implants pour modulateurs optiques seront offerts ultérieurement
- Prend en charge la conception et la fabrication d’un éventail de composants et de systèmes comprenant :
- des guides d’ondes (à bandes ou à moulures);
- des réseaux pour couplage de fibres;
- une tranchée profonde et des raccords progressifs nanométriques pour le couplage en périphérie;
- des multiplexeurs (diffraction ou guide d’ondes en réseau) et des filtres (résonateurs, réseaux de Bragg);
- des résonateurs en anneau et à disque.
FAB
Processus de fabrication NanoSOI d’Applied Nanotools (ANT)
Description
Caractéristiques
- Silicium sur isolant, couche de Si supérieure de 220 nm, BOX de 2 000 nm
- Système de lithographie par faisceau électronique de 100 keV pour guides d’ondes
- Niveau métallique pour l’acheminement et le chauffeur de métal
- Des options d’inclusion d’implants pour modulateurs optiques seront proposées ultérieurement
Remarque : Chaque accès individuel à la technologie exige de lire et de signer une entente de confidentialité propre à la technologie. Si cela n’est pas encore fait, communiquez avec Dr. Susan Xu à ce sujet dès que possible.
Bibliothèques et trousses de conception
Tarification
Tarif
Prix pour les abonnés
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Remarque : Les prix indiqués sont en dollars américains et n’incluent pas l’assistance technique. Contactez fab@cmc.ca pour un devis.
Remarque : Des prix réduits sont disponibles pour les universitaires au Canada avec un abonnement au CMC. Vous devez vous connecter pour le voir.
License
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